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Effect of Heavy-Ion-Induced Latent Damage on SiC MOSFETs Gate Reliability

可靠性（半导体） 重离子 材料科学 MOSFET 碳化硅 随时间变化的栅氧化层击穿 逻辑门 光电子学 功率MOSFET 离子 电子工程 电气工程 可靠性工程 栅氧化层 晶体管 电压 物理 工程类 功率（物理） 量子力学 冶金
作者
Qinian Yuan,Qingkui Yu,Shuang Cao,Yi Sun,Bo Mei,Jingyi Liu,Qianyuan Wang,He Wang,Zhichao Wei,Hongwei Zhang,Teng Zhang,Song Bai
出处
期刊：IEEE Transactions on Nuclear Science [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
日期：2025-01-01 卷期号：: 1-1
标识
DOI：10.1109/tns.2025.3562193
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