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Electronic structure of Ta2O5 polymorphs: Variation trend of band gap and the role of oxygen vacancies

密度泛函理论 材料科学 空位缺陷 费米能级 电子结构 凝聚态物理 带隙 电子能带结构 近藤绝缘体 态密度 金属-绝缘体过渡 化学物理 金属 物理 化学 计算化学 电阻率和电导率 电子 量子力学 近藤效应 冶金
作者
Hui-Min Tang,Yong Yang
出处
期刊:Chinese Journal of Physics [Elsevier BV]
卷期号:89: 1678-1692 被引量:1
标识
DOI:10.1016/j.cjph.2024.02.036
摘要

We provide a systematic study on the electronic structure of a series of Ta2O5 polymorphs using standard density functional theory (DFT) calculations as well as the more accurate many-body perturbation theory within the GW approximation. For the defect-free polymorphs, the variation trend of band gap can be microscopically related to the strength of orbital hybridization, and to the macroscopic bulk formation energy. The presence of oxygen vacancies is found to have profound effects on the electronic properties near the Fermi level, notably the reduction of band gap and gap closure (insulator-to-metal transition). Furthermore, depending on the vacancy sites, the band gap of some defective system may be enlarged with comparison to its defect-free counterpart. Such an anomalous behavior originates from the unexpected formation of Ta-Ta bonds.
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