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Photochemically combined mechanical polishing of N-type gallium nitride wafer in high efficiency

抛光 薄脆饼 化学机械平面化 材料科学 氮化镓 光电子学 惰性 氮化物 表面粗糙度 纳米技术 冶金 复合材料 化学 图层（电子） 有机化学
作者
Liwei Ou,Yahui Wang,Hui-Qing Hu,Liangliang Zhang,Zhigang Dong,Renke Kang,Dongming Guo,Kang Shi
出处
期刊：Precision Engineering-journal of The International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology [Elsevier]
日期：2018-08-10 卷期号：55: 14-21 被引量：28
标识
DOI：10.1016/j.precisioneng.2018.08.002
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