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Activating Basal Planes of NiPS3 for Hydrogen Evolution by Nonmetal Heteroatom Doping

非金属 过电位 材料科学 杂原子 兴奋剂 掺杂剂 催化作用 电催化剂 纳米技术 交换电流密度 化学工程 物理化学 冶金 光电子学 有机化学 戒指(化学) 塔菲尔方程 化学 金属 工程类 电极 电化学
作者
Jun Wang,Xinzhe Li,Bin Wei,Rong Sun,Wei Yu,Hui Ying Hoh,Haomin Xu,Jing Li,Xingbo Ge,Zuxin Chen,Chenliang Su,Zhongchang Wang
出处
期刊:Advanced Functional Materials [Wiley]
卷期号:30 (12) 被引量:110
标识
DOI:10.1002/adfm.201908708
摘要

Abstract NiPS 3 , one of the most promising catalysts among transition metal trichalcogenidophosphates (MTPs) in hydrogen evolution reaction (HER) electrocatalysis, is still inhibited by its unsatisfactory activity originating from its semiconducting nature and inert basal plane. Here, it is proposed, for the first time, to engineer the basal surface activity of NiPS 3 by nonmetal heteroatom doping, and predict that the degree to which the valance band of NiPS 3 is filled dominates not only the electrical conductivity of the catalyst, but also the strength of hydrogen adsorption at its surface. Direct experimental evidence is offered that in all the single nonmetal doping samples, C‐doped NiPS 3 exhibits the optimum activity owing to its moderate filled state of valance band and that C, N codoping even shows Pt‐like activity with an ultralow overpotential of 53.2 mV to afford 10 mA cm −2 current density and a high exchange current density of 0.7 mA cm −2 in 1 m KOH. The findings that less valance electrons of dopants than substitutional atoms are of pivotal importance for improving HER activity of NiPS 3 catalyst pave the way for readily designing novel MTPs of ever high performance to replace the incumbent Pt‐based catalysts.

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