Unified Theory of the Capacitance Behavior in LDMOS Devices

电容 符号 LDMOS 数学 物理 晶体管 量子力学 算术 电极 电压
作者
Kumari Neeraj Kaushal,Nihar R. Mohapatra
出处
期刊:IEEE Transactions on Electron Devices [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:69 (1): 39-44 被引量:14
标识
DOI:10.1109/ted.2021.3131302
摘要

This article reviews and provides physical insights into the anomalous capacitance behavior of laterally diffused MOS (LDMOS) transistors. It is shown that the modulation of channel/drift junction potential with ${V}_{G}$ , ${V}_{D}$ , and ${V}_{S}$ is primarily responsible for the capacitance peaks observed at different bias conditions. The ${V}_{\text {GS}}$ at which these capacitances peak and their magnitude depends on the channel doping gradient (CDG) and drift region parameters. Simple mathematical models valid across all bias regimes are proposed to explain the anomalous behavior. Different LDMOS device designs are also suggested to mitigate or delay the capacitance peaks.
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