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Selective wet etching of Si3N4/SiO2 in phosphoric acid with the addition of fluoride and silicic compounds
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作者
Dongwan Seo,
Jin Sung Bae,
Eunseok Oh,
Solbaro Kim,
Sangwoo Lim
出处
期刊:
Microelectronic Engineering
[Elsevier]
日期:2014-01-03
卷期号:118: 66-71
被引量:38
标识
DOI:10.1016/j.mee.2013.12.027
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