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Selective wet etching of Si3N4/SiO2 in phosphoric acid with the addition of fluoride and silicic compounds

硅酸选择性磷酸缓冲氧化物腐蚀氟化物硅质蚀刻（微加工）化学氟腐蚀坑密度无机化学材料科学有机化学图层（电子）反应离子刻蚀催化作用地震学地质学火山

作者

Dongwan Seo,Jin Sung Bae,Eunseok Oh,Solbaro Kim,Sangwoo Lim

出处

期刊：Microelectronic Engineering [Elsevier]
日期：2014-01-03 卷期号：118: 66-71 被引量：36

标识

DOI：10.1016/j.mee.2013.12.027

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