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Influence of I/O oxide process on the NBTI performance of 28nm HfO2-based HKMG p-MOSFETs

负偏压温度不稳定性材料科学氧化物可靠性（半导体）栅氧化层光电子学金属浇口 MOSFET 过程（计算）电子工程电气工程晶体管电压计算机科学工程类物理冶金功率（物理）量子力学操作系统

作者

Wei-Ting Kary Chien,Yueqin Zhu,Yongliang Song,Yong Zhao

出处

期刊：Microelectronics Reliability [Elsevier]
日期：2016-09-01 卷期号：64: 220-224 被引量：1

标识

DOI：10.1016/j.microrel.2016.07.004

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