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A Transparent Photoresist Made of Titanium Dioxide Nanoparticle-Embedded Acrylic Resin with a Tunable Refractive Index for UV-Imprint Lithography

光刻胶 平版印刷术 折射率 二氧化钛 材料科学 高折射率聚合物 光刻 纳米颗粒 光电子学 光学 复合材料 纳米技术 物理 图层(电子)
作者
Yinglu Liu,Dan Wang,Changlin Liu,Qianqian Hao,Jian Li,Jie‐Xin Wang,Xiuyun Chen,Peng Zhong,Xibin Shao,Jian‐Feng Chen
出处
期刊:Engineering [Elsevier]
卷期号:37: 96-104
标识
DOI:10.1016/j.eng.2023.12.014
摘要

Transparent photoresists with a high refractive index (RI) and high transmittance in visible wavelengths have promising functionalities in optical fields. This work reports a kind of tunable optical material composed of titanium dioxide nanoparticles embedded in acrylic resin with a high RI for ultraviolet (UV)-imprint lithography. The hybrid film exhibits a tunable RI of up to 1.67 (589 nm) after being cured by UV light, while maintaining both a high transparency of over 98% in the visible light range and a low haze of less than 0.05%. The precision machining of optical microstructures can be imprinted easily and efficiently using the hybrid resin, which acts as a light guide plate (LGP) to guide the light from the side to the top in order to conserve the energy of the display device. These preliminary studies based on both laboratory and commercial experiments pave the way for exploiting the unparalleled optical properties of nanocomposite resins and promoting their industrial application.
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