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Thermomechanical analysis of Si-chip fracture caused by double-sided Ag sintering for PCB embedded package

中间层 炸薯条 材料科学 基质(水族馆) 计算机科学 复合材料 图层(电子) 电信 蚀刻(微加工) 海洋学 地质学
作者
Ankit Sharma,Till Huesgen
标识
DOI:10.1109/iwipp50752.2022.9894136
摘要

Previously, a novel concept for PCB embedding of power semiconductors with reinforced top contacts has been published by our group. In this work, a thermomechanical study is performed to understand the fracture probability of the chip during fabrication. The ball-on-ring (BOR) and ball-on-edge (BOE) tests are employed to characterize the chip strength. A probabilistic model is used to evaluate the failure probability. The contribution of different fabrication steps to the overall failure probability is investigated. A parametric analysis is performed to analyze the impact of material choice and the thickness of the substrate and the interposer. A single-step sintered package with a 200 $\mu\mathrm{m}$ thick Cu interposer and an 800 $\mu\mathrm{m}$ thick Cu substrate with hard Cu leads to a 12% failure probability compared to 52% for an identical stack with a soft Cu substrate. The top surface failure probability for a 150 $\mu\mathrm{m}$ thick CIC interposer is 0.016% compared to 8.6% for a 100 $\mu\mathrm{m}$ Cu interposer., for an identical $800\mu \mathrm{m}$ thick Cu substrate. A sinterlamination process, where the die-attach and curing of the prepreg material simultaneously take place, results in a 0.03% failure probability.
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