Coexistence of Nonvolatile WORM, Bipolar, Unipolar, and Volatile Resistive Switching Characteristics in a Dry Oxide Layer With Ag Conductive Bridges

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作者
Wun-Ciang Jhang,Chih-Chieh Hsu
出处
期刊:IEEE Transactions on Electron Devices [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:69 (9): 4914-4919 被引量:13
标识
DOI:10.1109/ted.2022.3192797
摘要

In this study, we demonstrate multimemory functions of anAg/SiO x /n + -Si device, including nonvolatile (NV) write-once-read-many-times (WORM), NV bipolar, NV unipolar, and volatile resistive switching (RS) characteristics. The SiO x layer is grown using a dry oxidation process. Different RS features are obtained by modulating the compliance current during device operation. The resistance switch from the OFF to ON state, corresponding to a set process, is observed in the positive voltage region, which indicates that the Ag cations are responsible for the RS process. When the Ag/SiO x /n + -Si memory switches to the ON state, an Ag conductive bridge (CB) in the SiO x layer is indeed observed under transmission electron microscopy (TEM) examination. A CB-based model is used to explain the different RS behaviors of the Ag/SiO x /n + -Si resistive memory.
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