Localized Surface Doping Induced Ultralow Contact Resistance between Metal and (Bi,Sb)2Te3 Thermoelectric Films

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作者
Man Zhou,Wei Zhu,Shucheng Bao,Jie Zhou,Yuedong Yu,Qingqing Zhang,Chaojie Ren,Zhi Li,Yuan Deng
出处
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces [American Chemical Society]
卷期号:16 (27): 35815-35824
标识
DOI:10.1021/acsami.4c06713
摘要

Micro thermoelectric devices are expected to further improve the cooling density for the temperature control of electronic devices; nevertheless, the high contact resistivity between metals and semiconductors critically limits their applications, especially in chip cooling with extremely high heat flux. Herein, based on the calculated results, a low specific contact resistivity of ∼10
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