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High performance ferroelectric field-effect transistors for large memory-window, high-reliability, high-speed 3D vertical NAND flash memory

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作者
Giuk Kim,Sang-Ho Lee,Taehyong Eom,Taeho Kim,Minhyun Jung,Hunbeom Shin,Yeongseok Jeong,Myounggon Kang,Sanghun Jeon
出处
期刊:Journal of Materials Chemistry C [Royal Society of Chemistry]
卷期号:10 (26): 9802-9812 被引量:20
标识
DOI:10.1039/d2tc01608g
摘要

This article presents a 3D ferroelectric NAND flash memory with a wide MW, low operation voltage, fast PGM/ERS speed, and higher endurable cycles based on a HfZrO film that shows excellent ferroelectricity even at a relatively thick thickness.

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