I–V characteristics of tantalum oxide film and the effect of defects on its electrical properties

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作者
Chao Wang,Ling Fang,Gong Zhang,Daming Zhuang,Minsheng Wu
出处
期刊:Thin Solid Films [Elsevier]
卷期号:458 (1-2): 246-250 被引量:19
标识
DOI:10.1016/j.tsf.2003.11.269
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