Integrity of Micro-Hotplates During High-Temperature Operation Monitored by Digital Holographic Microscopy

材料科学 显微镜 变形(气象学) 纳米 数字全息显微术 纳米尺度 复合材料 表面完整性 结构完整性 电极 光学 纳米技术 化学 残余应力 工程类 物理化学 物理 结构工程
作者
Yiu Wai Lai,Nektarios Koukourakis,Nils C. Gerhardt,Martin R. Hofmann,Robert G. Meyer,Sven Hamann,M. Ehmann,Klaus Hackl,Emmanouil Darakis,Alfred Ludwig
出处
期刊:Journal of microelectromechanical systems [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:19 (5): 1175-1179 被引量:13
标识
DOI:10.1109/jmems.2010.2067442
摘要

An investigation on the integrity of micro-hotplates using in situ digital holographic microscopy is reported. The surface topography and surface evolution of the devices during high-temperature operation (heating/cooling cycles) is measured with nanometer-scale resolution. A localized permanent out-of-plane surface deformation of 40% of the membrane thickness caused by the top measurement electrodes occurring after the first cycle is observed. The integrity-related issues caused by such a permanent deformation are discussed.
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