Metallic conductivity and the role of copper in ZnO/Cu/ZnO thin films for flexible electronics

材料科学 电阻率和电导率 透射率 电介质 电导率 薄膜 光电子学 功勋 吸收(声学) 光学 复合材料 冶金 纳米技术 化学 工程类 物理 物理化学 电气工程
作者
K. Sivaramakrishnan,Terry Alford
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:94 (5) 被引量:124
标识
DOI:10.1063/1.3077184
摘要

ZnO/Cu/ZnO multilayer structures are obtained with the highest conductivity of dielectric-metal-dielectric films reported in literature with a carrier concentration of 1.2×1022 cm−3 and resistivity of 6.9×10−5 Ω-cm at the optimum copper layer thickness. The peak transmittance, photopic averaged transmittance, and Haacke figure of merit are 88%, 75%, and 8.7×10−3 Ω−1, respectively. The conduction mechanism involves metal to oxide carrier injection prior to the formation of a continuous metal conduction pathway. Optical transmission is elucidated in terms of copper’s absorption due to d-band to Fermi surface transitions at short wavelengths and reflectance combined with scattering losses at long wavelengths.
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