Developing a Synthesis Process for Large‐Scale h‐BN Nanosheets Using Magnetron Sputtering and Heat Annealing

材料科学 X射线光电子能谱 退火(玻璃) 纳米片 溅射沉积 腔磁控管 溅射 拉曼光谱 结晶学 光电子学 化学工程 纳米技术 复合材料 薄膜 光学 化学 工程类 物理
作者
Yuki Hirata,Kanta Yoshii,Mikito Yoshizato,Hiroki Akasaka,Naoto OHTAKE
出处
期刊:Advanced Engineering Materials [Wiley]
卷期号:25 (23) 被引量:5
标识
DOI:10.1002/adem.202300933
摘要

Hexagonal boron nitride (h‐BN) is an extensively investigated 2D material with exceptional quantum effects, which renders it promising for use in next‐generation nanoelectronic devices. However, the synthesis of single‐ or few‐layer h‐BN nanosheets with large‐area single‐crystal structures is extremely challenging. In this article, a new method is presented for synthesizing h‐BN on a Cu substrate via magnetron sputtering and heat annealing. Three samples with different radio‐frequency (RF) power levels are prepared to evaluate the effect of RF power on h‐BN nanosheet synthesis. Under a higher RF power, the B‐to‐N bonding ratio is closer to 1:1 and further reduces the full width at half maximum of X‐Ray photoelectron spectroscopy B1s and N1s narrow spectra. Heating at 1000 °C reveals white domains with 60° facets, which may correspond to the hexagonal honeycomb lattice structure of h‐BN. Cross‐sectional observations show that a layered structure comprising 10–20 layers forms along the Cu interface. The elemental composition ratio and bonding states reveal the presence of equal amounts of N and B as well as a single peak derived from the B–N bond. Meanwhile, the E 2g mode of h‐BN's six‐membered ring structure is indicated at 1364.6 cm −1 , thus demonstrating the successful synthesis of an h‐BN film.
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