Tailoring the Surface of Metal Halide Perovskites to Enable the Atomic Layer Deposition of Metal Oxide Contacts

卤化物 原子层沉积 金属 氧化物 材料科学 图层(电子) 沉积(地质) 纳米技术 无机化学 冶金 化学 沉积物 生物 古生物学
作者
James A. Raiford,Cullen Chosy,Benjamin A. Reeves,Stacey F. Bent
出处
期刊:ACS applied energy materials [American Chemical Society]
卷期号:4 (9): 9871-9880 被引量:5
标识
DOI:10.1021/acsaem.1c01886
摘要

Replacing organic contact layers with inorganic counterparts, such as metal oxides, is one strategy for improving long-term device stability in metal halide perovskite solar cells. Often, the methods used to deposit metal oxide thin films are incompatible with metal halide perovskites, creating challenges for the fabrication of contacts above the perovskite absorber layer. In this study, we utilize a one-step, solution treatment of the top surface of Cs0.25FA0.75Pb(Br0.20I0.80)3 to create a thin (∼1 nm) overlayer of lead sulfide (PbS) to protect the underlying perovskite during subsequent deposition. X-ray characterization of the surface region shows that the PbS overlayer limits undesirable changes to the perovskite structure and stoichiometry during atomic layer deposition (ALD) of SnO2. This protection enables ALD growth of SnO2 electron contacts on top of the perovskite without an organic transport layer (e.g., C60), resulting in a solar cell with a power conversion efficiency of 5.8%. This result is a marked improvement over devices with ALD SnO2 grown directly on the perovskite without a PbS overlayer, which produce no power output. The interface characterization and device results in this study highlight some of the key challenges associated with ALD metal oxide growth on perovskite materials and can help inform the future design of inorganic contact layer deposition in solar photovoltaic technologies.

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