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Preparation of CuI films on NaCl single crystals by reactive sputtering and characterization by electron microscopy and Rutherford backscattering

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作者
K. Reichelt,G L R Mair
出处
期刊:Journal of Vacuum Science and Technology [American Vacuum Society]
卷期号:16 (3): 896-898 被引量:7
标识
DOI:10.1116/1.570109
摘要

The structure and composition of reactively sputtered CuIx films have been investigated by electron diffraction and Rutherford ion backscattering. It has been found that under favorable conditions single-crystal films of CuI in the γ-structure are deposited. These films have a composition ratio Cu/I of approximately one.
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