Study of chemisorption on silver surfaces using ultraviolet photoelectron spectroscopy (UPS)

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作者
L. J. Gerenser,R. C. Baetzold
出处
期刊:Surface Science [Elsevier]
卷期号:99 (2): 259-268 被引量:37
标识
DOI:10.1016/0039-6028(80)90390-8
摘要

Ultraviolet photoelectron spectroscopy (UPS) was used to study the chemisorption of halogens on stepped [3(111) × (100)] and low-index (111) silver surfaces. The initial rate of halogen adsorption using CHCl3 exposure on the silver stepped surface is approximately twice that on the low-index surface. This indicates that steps play an important role in chemisorption even on metals with a low density of states at the Fermi level. The adsorbate-induced levels on silver were correlated with halogen p valence orbitals using model extended Hückel calculations. Changes in the silver d band are interpreted as due to p−d orbital interactions.

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