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Investigation on the controllable growth of monodisperse silica colloid abrasives for the chemical mechanical polishing application

作者
Xiaokai Hu,Zhitang Song,Haibo Wang,Weili Liu,Zefang Zhang
出处
期刊:Microelectronic Engineering [Elsevier BV]
卷期号:87 (9): 1751-1755 被引量:12
标识
DOI:10.1016/j.mee.2009.10.005

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