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Optimized antireflection coatings for high-efficiency silicon solar cells

材料科学 图层(电子) 平面的 光学涂层 涂层 光电子学 防反射涂料 氧化物 反射(计算机编程) 晶体硅 光学 纳米技术 冶金 计算机科学 计算机图形学(图像) 物理 程序设计语言
作者
Jianhua Zhao,Martin A. Green
出处
期刊:IEEE Transactions on Electron Devices [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:38 (8): 1925-1934 被引量:426
标识
DOI:10.1109/16.119035
摘要

Antireflection coatings for silicon solar cells have been optimized both theoretically and experimentally for a range of possible situations, such as single-layer and double-layer coatings, and on planar and microgrooved surfaces. The effect of a thin passivating silicon dioxide layer under the coating was also considered. A critical passivating oxide thickness of about 300 AA was found to be important for the design of these coatings. A new half-quarter-wavelength double layer antireflection coating can be achieved with very low reflection if the passivating oxide has to be thicker than this critical thickness.< >

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