Production mechanism and reactivity of the SiH radical in a silane plasma

化学 激进的 硅烷 离解(化学) 光化学 基态 等离子体 托尔 分析化学(期刊) 硅烷 原子物理学 物理化学 有机化学 量子力学 热力学 物理
作者
Johannes Schmitt,P. Gressier,M. Krishnan,G. De Rosny,J. Perrin
出处
期刊:Chemical Physics [Elsevier BV]
卷期号:84 (2): 281-293 被引量:104
标识
DOI:10.1016/0301-0104(84)85213-1
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