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The Chemical Vapor Deposition of Nickel Phosphide or Selenide Thin Films from a Single Precursor
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作者
A. Panneerselvam,
Mohammad Azad Malik,
Mohammad Afzaal,
Paul O’Brien,
Madeleine Helliwell
出处
期刊：
Journal of the American Chemical Society
[American Chemical Society]
日期：2008-02-01
卷期号：130 (8): 2420-2421
被引量：216
链接
nih.gov
ac.uk
ac.uk
doi.org
标识
DOI：10.1021/ja078202j
摘要
Nickel phosphide, nickel selenide thin films and their heterostructure (Ni0.85Se/Ni2P) were deposited from a newly synthesized single source precursor {Ni[iPr2P(S)NP(Se)iPr2]2} just by altering the deposition temperature using CVD.
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