Study of Erbium Oxidation by XPS and UPS

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作者
N. Guerfi,O. Bourbia,S. Achour
出处
期刊:Materials Science Forum 卷期号:480-481: 193-196 被引量:17
标识
DOI:10.4028/www.scientific.net/msf.480-481.193
摘要

X-ray and UV photoelectron spectroscopy (XPS and UPS were used for studying the oxidation of Er films deposited on Ta substrate under ultra-high vacuum.Oxidation has been carried out at room temperatue with an oxygen pressure of 2x10-5 mbar.Erbium exposition to oxygen produces ; Er2O3 and a hydoxide.Subjecting the sample to a post annealing treatment at 750 °C dissociates the hydroxide and produces additional Er2O3.UPS and XPS valence band gives evidence that the formed oxide is Er2O3.

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