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The Stress and Microstructure analysis of Polycrystalline Silicon Films Deposited by LPCVD

材料科学 残余应力 化学气相沉积 复合材料 微观结构 表面粗糙度 纳米晶硅 粒度 硅 分析化学（期刊） 冶金 非晶硅 晶体硅 纳米技术 图层（电子） 化学 色谱法
作者
Y. T. Cherng,M.C. Boysel,Byron D. Gates
出处
期刊：MRS Proceedings [Springer Nature]
日期：2012-01-01 卷期号：1426: 263-268 被引量：4
标识
DOI：10.1557/opl.2012.1244
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