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Rate of radiative and nonradiative recombination in bulk GaN grown by various techniques

重组 无辐射复合 辐射传输 饱和(图论) 自发辐射 发光 表征(材料科学) 光电子学 材料科学 激发态 载流子寿命 瞬态(计算机编程) 半导体 半导体材料 化学 原子物理学 激光器 物理 光学 纳米技术 组合数学 操作系统 基因 生物化学 计算机科学 数学
作者
Saulius Juršėnas,S. Miasojedovas,A. ukauskas
出处
期刊:Journal of Crystal Growth [Elsevier]
卷期号:281 (1): 161-167 被引量:10
标识
DOI:10.1016/j.jcrysgro.2005.03.022
摘要

A method of GaN epilayers quality characterization based on room-temperature luminescence transient studies under deep-trap saturation regime is demonstrated. Recent applications of the method for carrier lifetime measurement in GaN epilayers grown by various techniques are reviewed. The contributions of radiative and nonradiative recombination of carriers in highly excited GaN are distinguished. Possibilities of further improvement of the materials quality are discussed.

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