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Development of New TiN/ZrO2/Al2O3/ZrO2/TiN Capacitors Extendable to 45nm Generation DRAMs Replacing HfO2 Based Dielectrics

德拉姆 电容器 电介质 材料科学 计算机科学 光电子学 电气工程 工程类 电压 冶金
作者
Dries Kil,Ho-Sung Song,Kyung Jin Lee,Kwon Ho Hong,Jae Hoon Kim,K.-S. Park,S.-J. Yeom,J. S. Roh,Noh-Yeal Kwak,Hyunchul Sohn,J.-W. Kim,Sung-Won Park
出处
期刊:Symposium on VLSI Technology 被引量:54
标识
DOI:10.1109/vlsit.2006.1705205
摘要

New ZrO 2 /Al 2 O 3 /ZrO 2 (ZAZ) dielectric film was theoretically designed and successfully demonstrated to be applicable to 45nm DRAM devices. ZAZ dielectric film is a combined structure from tetragonal ZrO 2 and amorphous Al 2 O 3 . Thus prepared ZAZ TFT capacitors showed very small Tox.eq value of 6.3Å and low leakage current less than 1fA/cell. It was also confirmed that ZAZ TFT capacitor was thermally robust during backend full thermal process by applying it to the final DRAM product in mass production
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