Schottky barrier formation and band bending revealed by first- principles calculations

带材弯曲 肖特基势垒 掺杂剂 材料科学 兴奋剂 半导体 光电子学 纳米柱 肖特基二极管 偶极子 二极管 纳米技术 纳米结构 化学 有机化学
作者
Yang Jiao,Anders Hellman,Yurui Fang,Shiwu Gao,Mikael Käll
出处
期刊:Scientific Reports [Nature Portfolio]
卷期号:5 (1) 被引量:75
标识
DOI:10.1038/srep11374
摘要

An atomistic insight into potential barrier formation and band bending at the interface between a metal and an n-type semiconductor is achieved by ab initio simulations and model analysis of a prototype Schottky diode, i.e., niobium doped rutile titania in contact with gold (Au/Nb:TiO$_2$). The local Schottky barrier height is found to vary between 0 and 1.26 eV depending on the position of the dopant. The band bending is caused by a dopant induced dipole field between the interface and the dopant site, whereas the pristine Au/TiO$_2$ interface does not show any band bending. These findings open the possibility for atomic scale optimization of the Schottky barrier and light harvesting in metal-semiconductor nanostructures.
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