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Healing of Planar Defects in 2D Materials via Grain Boundary Sliding

材料科学 晶界 堆积 亚稳态 原子单位 密度泛函理论 凝聚态物理 平面的 透射电子显微镜 退火(玻璃) 化学物理 扫描透射电子显微镜 叠加断层 纳米技术 结晶学 光电子学 复合材料 计算化学 微观结构 位错 核磁共振 化学 计算机科学 计算机图形学(图像) 物理 量子力学
作者
Xiaoxu Zhao,Yujin Ji,Jianyi Chen,Wei Fu,Jiadong Dan,Yuanyue Liu,Stephen J. Pennycook,Wu Zhou,Kian Ping Loh
出处
期刊:Advanced Materials [Wiley]
卷期号:31 (16) 被引量:47
标识
DOI:10.1002/adma.201900237
摘要

Abstract Understanding the mechanisms and kinetics of defect annihilations, particularly at the atomic scale, is important for the preparation of high‐quality crystals for realizing the full potential of 2D transition metal dichalcogenides (TMDCs) in electronics and quantum photonics. Herein, by performing in situ annealing experiments in an atomic resolution scanning transmission electron microscope, it is found that stacking faults and rotational disorders in multilayered 2D crystals can be healed by grain boundary (GB) sliding, which works like a “wiper blade” to correct all metastable phases into thermodynamically stable phases along its trace. The driving force for GB sliding is the gain in interlayer binding energy as the more stable phase grows at the expanse of the metastable ones. Density functional theory calculations show that the correction of 2D stacking faults is triggered by the ejection of Mo atoms in mirror twin boundaries, followed by the collective migrations of 1D GB. The study highlights the role of the often‐neglected interlayer interactions for defect repair in 2D materials and shows that exploiting these interactions has significant potential for obtaining large‐scale defect‐free 2D films.

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