Stacking Effects in van der Waals Heterostructures of Silicene and Hexagonal Boron Nitride

范德瓦尔斯力 堆积 硅烯 凝聚态物理 材料科学 六方氮化硼 石墨烯 费米能量 异质结 氮化硼 结合能 化学物理 纳米技术 化学 物理 量子力学 分子 电子 有机化学
作者
Shahid Sattar,Yongyou Zhang,Udo Schwingenschlögl
出处
期刊:Advanced theory and simulations [Wiley]
卷期号:1 (11) 被引量:12
标识
DOI:10.1002/adts.201800083
摘要

Abstract The stacking effects on the electronic structure of van der Waals heterostructures consisting of silicene and hexagonal boron nitride are investigated by first‐principles calculations. It is shown that the stacking is fundamental for the details of the dispersion relation in the vicinity of the Fermi energy (gapped, non‐gapped, linear, parabolic) despite small differences in the total energy. It is also demonstrated that the tight‐binding model of bilayer graphene is able to capture most of these features of the van der Waals heterostructures, and the limitations of the model are identified.
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