A Simple Model of Negative Capacitance FET With Electrostatic Short Channel Effects

排水诱导屏障降低 信道长度调制 MOSFET 泊松方程 阈下传导 电容 材料科学 静电学 阈值电压 凝聚态物理 电压 晶体管 物理 量子力学 电极
作者
Zhipeng Dong,Jing Guo
出处
期刊:IEEE Transactions on Electron Devices [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:64 (7): 2927-2934 被引量:70
标识
DOI:10.1109/ted.2017.2706182
摘要

A simple model of negative capacitance (NC) MOSFETs is presented. The model treats 2-D electrostatic effects, and the ballistic to diffusive transport regimes. It shows quantitative agreement with numerical device simulations based on a self-consistent solution of the Poisson equation and quantum transport equation based on nonequilibrium Green's function formalism, for an NC MOSFET structure without an internal floating gate. The model can accurately describe the reverse drain-induced barrier lowering (DIBL) and negative output differential conductance (NDC) effects as the NC FETs scale down. With approximations valid at low power supply voltages, it is shown that the improvement of the subthreshold swing (SS) due to electrostatic short channel effects results in a linear increase of the reverse DIBL and NDC. For a modified NC MOSFET structure with an ultrathin quantum metallic layer contacted to the source, the SS, however, can be improved considerably with the reverse DIBL and NDC approximately unchanged.
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