Suppressing the Ion Migration in Halide Perovskite Wafers for Current-Drift Free X-ray Detectors

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作者
Yingjun Chai,Zhili Juan,Ye Wu,Yang Liu,Xiaoming Li
出处
期刊:ACS applied electronic materials [American Chemical Society]
卷期号:5 (1): 544-551 被引量:25
标识
DOI:10.1021/acsaelm.2c01597
摘要

Metal halide perovskites have been demonstrated as potential X-ray detection materials due to their high defect tolerance, large diffusion length, and high attenuation efficiency. X-ray detectors based on hot-pressed perovskite wafers are investigated intensively recently because of the convenience of scalable fabrication. However, in spite of the large crystal size within wafers, the prepared detectors usually suffer from severe ion migration and current drift under both dark and bright states. In this work, ethylenediamine dihydroiodate (EDDI) was introduced as a strong surface passivation agent, which compensated for the surface iodide vacancy successfully. The ion migration in optimal MAPbI3@EDDI wafer is significantly suppressed, which is manifested by increased migration activation energy and stable current under high bias for 10 h. Moreover, the introduction of EDDI also reduced the dark current, contributing a high on–off ratio and a champion sensitivity of 8291.22 μC Gyair–1 cm–2. A low detection limit of 340 nGyair s–1 is also obtained, which is much lower than that of commercial X-ray detectors. Besides, the as-fabricated X-ray detector can endure long-term operation with flat current under a high bias of 20 V. This work provides a route for the performance improvement of perovskite wafer-based X-ray detectors.
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