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Deep-potential enabled multiscale simulation of gallium nitride devices on boron arsenide cooling substrates

材料科学 热导率 砷化镓 氮化硼 氮化镓 光电子学 宽禁带半导体 界面热阻 散热片 半导体 异质结 带隙 声子 热阻 纳米技术 传热 凝聚态物理 热力学 物理 复合材料 图层(电子)
作者
Jing Wu,E Zhou,An Huang,Hongbin Zhang,Ming Hu,Guangzhao Qin
出处
期刊:Nature Communications [Nature Portfolio]
卷期号:15 (1): 2540-2540 被引量:53
标识
DOI:10.1038/s41467-024-46806-7
摘要

High-efficient heat dissipation plays critical role for high-power-density electronics. Experimental synthesis of ultrahigh thermal conductivity boron arsenide (BAs, 1300 W m-1K-1) cooling substrates into the wide-bandgap semiconductor of gallium nitride (GaN) devices has been realized. However, the lack of systematic analysis on the heat transfer across the GaN-BAs interface hampers the practical applications. In this study, by constructing the accurate and high-efficient machine learning interatomic potentials, we perform multiscale simulations of the GaN-BAs heterostructures. Ultrahigh interfacial thermal conductance of 260 MW m-2K-1 is achieved, which lies in the well-matched lattice vibrations of BAs and GaN. The strong temperature dependence of interfacial thermal conductance is found between 300 to 450 K. Moreover, the competition between grain size and boundary resistance is revealed with size increasing from 1 nm to 1000 μm. Such deep-potential equipped multiscale simulations not only promote the practical applications of BAs cooling substrates in electronics, but also offer approach for designing advanced thermal management systems.
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