TiN/HZO/TiN ferroelectric capacitors with TiO2 insets: critical difference between top and bottom interface modification

材料科学 铁电性 电容器 接口(物质) 光电子学 复合材料 冶金 电介质 电压 接触角 电气工程 坐滴法 工程类
作者
Аnna G. Chernikova,Nikita A. Sizykh,Ivan V. Zabrosaev,Andrey M. Markeev
出处
期刊:Surfaces and Interfaces [Elsevier]
卷期号:: 106135-106135
标识
DOI:10.1016/j.surfin.2025.106135

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