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Silicon‐Compatible Ferroelectric Tunnel Junctions with a SiO2/Hf0.5Zr0.5O2 Composite Barrier as Low‐Voltage and Ultra‐High‐Speed Memristors

材料科学 硅 复合数 电压 光电子学 铁电性 纳米技术 电气工程 复合材料 电介质 工程类
作者
He Wang,Zeyu Guan,Jiachen Li,Zhen Luo,Xinzhe Du,Zijian Wang,Haoyu Zhao,Shengchun Shen,Yuewei Yin,Xiaoguang Li
出处
期刊：Advanced Materials [Wiley]
日期：2024-01-31 卷期号：36 (15) 被引量：5
链接
nih.govdoi.org
标识
DOI：10.1002/adma.202211305
摘要
The big data era requires ultrafast, low-power, and silicon-compatible materials and devices for information storage and processing. Here, ferroelectric tunnel junctions (FTJs) based on SiO
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