Emerging Memory RRAM Embedded in 12FFC FinFET Technology for industrial Applications

电阻随机存取存储器 非易失性存储器 随机存取存储器 工程物理 计算机科学 电气工程 工程类 计算机硬件 电压
作者
Chun-Yu Wu,Chang-Feng Yang,Chih-Wei Lai,Yu‐Tien Wu,Ta‐Chun Chien,Ming-Han Yang,Ming‐Ta Yang,Yu-Neng Kao,Chih-Lin Cheng,Chia-Yu Wang,How Tseng,Yu-Der Chih,Wen-Ting Chu,Arthur Hung,W. H. Chuang
标识
DOI:10.1109/iedm45741.2023.10413775
摘要

In this work, an embedded RRAM array extending from 40/28nm logic to 12FFC FinFET technology is firstly demonstrated. Based on comprehensive reliability analysis on 28nm RRAM. we are able to identify the failure mode of 12FFC RRAM swiftly and address it through design solutions and write algorithm optimization. The physical origin of SET failure can be attributed to filament contraction and validated by 2D Monte-Carlo simulation. This finding provides a valuable insight on write algorithm innovation to achieve 10K endurance, more than 105°C/10yr retention, and 3x reflow capability, enabling next generation high-density embedded memory for industrial application.
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