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作者
Anke Sanz‐Velasco,Cristina Rusu,Isabelle Ferain,Cindy Colinge,Mark S. Goorsky
标识
DOI:10.4032/9789814364256
摘要
In this chapter, we provide a brief overview of patterned substrate epitaxy (PSE) with intention to improve material quality of lattice mismatched thin films. We describe a short history, mechanisms of strain relaxation in diamond and zincblende heterostructures with small lattice mismatch when grown on large size blanket substrates and on patterned substrates, and implementation techniques.
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