Surface Recombinations in III-Nitride Micro-LEDs Probed by Photon-Correlation Cathodoluminescence

阴极发光 发光二极管 材料科学 光电子学 氮化物 纳米尺度 钝化 氮化镓 光子 量子阱 光学 纳米技术 物理 图层(电子) 发光 激光器
作者
Sylvain Finot,Corentin Le Maoult,E. Gheeraert,David Vaufrey,Gwénolé Jacopin
出处
期刊:ACS Photonics [American Chemical Society]
卷期号:9 (1): 173-178 被引量:31
标识
DOI:10.1021/acsphotonics.1c01339
摘要

III-Nitride micro-LEDs are promising building blocks for the next generation of high performance microdisplays. To reach a high pixel density, it is desired to achieve micro-LEDs with lateral dimensions below 10 μm. With such pixel downscaling, sidewall effects are becoming important, and an understanding of the impact of nonradiative surface recombinations is of vital importance. It is thus required to develop an adapted metric to evaluate the impact of these surface recombinations with a nanoscale spatial resolution. Here, we propose a methodology to quantitatively assess the influence of surface recombinations on the optical properties of InGaN/GaN quantum wells based on spatially resolved time-correlated cathodoluminescence spectroscopy. By coupling this technique to a simple diffusion model, we confirm that the combination of KOH treatment and Al2O3 passivation layer drastically reduces surface recombinations. These findings emphasize the need for nanoscale time-resolved experiments to quantify the local changes in internal quantum efficiency of microdevices.
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