Self-healing mechanisms toward stable photoelectrochemical water splitting

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作者
Chao Feng,Yanbo Li
出处
期刊:Chinese Journal of Catalysis [China Science Publishing & Media Ltd.]
卷期号:60: 158-170 被引量:1
标识
DOI:10.1016/s1872-2067(23)64648-0
摘要

Achieving stability poses a significant challenge in the practical implementation of photoelectrochemical (PEC) water splitting. The main factors affecting the long-term stability of PEC devices are chemical- and photo-corrosion of the semiconductor light absorbers, along with damage to the surface protection layer and the loss or reconstruction of the active centers of the co-catalysts. Introducing the concept of self-healing provides new strategies to enhance the stability of the semiconductor light absorbers, protection layer and co-catalysts in PEC water-splitting studies. Continuous exploration of these dynamic repair strategies is expected to promote the long-term stability of the PEC devices. This review outlines the deactivation mechanisms of different semiconductor light absorbers, protection layers, and co-catalysts under operational conditions. We further highlight corresponding regeneration and repair strategies, while addressing the challenges and prospects associated with constructing self-healing stable PEC water-splitting systems.
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