Nitrogen, oxygen, and hydrogen bonding and thermal stability of ambient exposed nitrogen-terminated H-diamond (111) surfaces studied by XPS and HREELS

氮气 X射线光电子能谱 化学 钻石 氧气 热稳定性 无机化学 分析化学(期刊) 化学工程 环境化学 有机化学 工程类
作者
Mohan Kumar Kuntumalla,Shaul Michaelson,A. Hoffman
出处
期刊:Surface Science [Elsevier]
卷期号:749: 122555-122555 被引量:3
标识
DOI:10.1016/j.susc.2024.122555

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