Influence of defects on the femtosecond laser damage resistance of multilayer dielectric gratings

材料科学 飞秒 光学 激光器 栅栏 电介质 放大 折射率 时域有限差分法 衍射效率 超短脉冲 光电子学 物理
作者
Simin Zhang,Ziyao Su,Carmen S. Menoni,Enam Chowdhury
出处
期刊:Optics Letters [Optica Publishing Group]
卷期号:48 (5): 1212-1212 被引量:6
标识
DOI:10.1364/ol.483581
摘要

Multilayer dielectric (MLD) gratings with high diffraction efficiency and a high laser-induced damage (LID) threshold for pulse compressors are key to scaling the peak and average power of chirped pulse amplification lasers. However, surface defects introduced by manufacturing, storage, and handling processes can reduce the LID resistance of MLD gratings and impact the laser output. The underlying mechanisms of such defect-initiated LID remain unclear, especially in the femtosecond regime. In this Letter, we model dynamic processes in interactions of a 20-fs near-infrared (NIR) laser pulse and a MLD grating design in the presence of cylindrically symmetrical nodules and particle contaminants and cracks at the surface. Utilizing a dynamic model based on a 2D finite difference in time domain (FDTD) field solver coupled with photoionization, electron collision, and refractive index modification, we study the simulation results for the damage site distribution initiated by defects of various types and sizes and its impact on the LID threshold of the grating design.
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