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Chemical characteristics via quantitative photoelectron analysis of chemical-solution-deposited yttrium oxide thin films for Metal-Insulator-Metal Capacitor applications

钇 金属 X射线光电子能谱 电容器 氧化物 薄膜 材料科学 绝缘体（电） 金属绝缘体金属 无机化学 分析化学（期刊） 化学工程 化学 纳米技术 光电子学 冶金 电压 电气工程 环境化学 工程类
作者
Martin A. Ruiz-Molina,G. Suárez-Campos,D. Cabrera-Germán,D. Berman-Mendoza,Hailin Hu,M. Sotelo-Lerma
出处
期刊：Thin Solid Films [Elsevier BV]
日期：2024-02-22 卷期号：793: 140269-140269 被引量：1
标识
DOI：10.1016/j.tsf.2024.140269
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