Characterization of Titanium Silicide (TiSi[sub 2]) for Complementary Metal Oxide Semiconductor

材料科学 表征(材料科学) 硅化物 金属 光电子学 冶金 纳米技术
作者
Yee Mon Thu,Khin Maung Latt,Abdul Aziz Bin Mohamed
出处
期刊:Nucleation and Atmospheric Aerosols 被引量:1
标识
DOI:10.1063/1.3295615
摘要

Views Icon Views Article contents Figures & tables Video Audio Supplementary Data Peer Review Share Icon Share Twitter Facebook Reddit LinkedIn Tools Icon Tools Reprints and Permissions Cite Icon Cite Search Site Citation Yee Mon Thu, Khin Maung Latt; Characterization of Titanium Silicide (TiSi2) for Complementary Metal Oxide Semiconductor. AIP Conf. Proc. 5 January 2010; 1202 (1): 84–87. https://doi.org/10.1063/1.3295615 Download citation file: Ris (Zotero) Reference Manager EasyBib Bookends Mendeley Papers EndNote RefWorks BibTex toolbar search Search Dropdown Menu toolbar search search input Search input auto suggest filter your search All ContentAIP Publishing PortfolioAIP Conference Proceedings Search Advanced Search |Citation Search
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