Prediction of Flatband Potentials at Semiconductor‐Electrolyte Interfaces from Atomic Electronegativities

电负性 电解质 半导体 金属 氧化物 吸附 无机化学 光电解 化学 化学物理 材料科学 物理化学 光电子学 电解 有机化学 电极
作者
M. A. Butler,David S. Ginley
出处
期刊:Journal of The Electrochemical Society [Institute of Physics]
卷期号:125 (2): 228-232 被引量:1198
标识
DOI:10.1149/1.2131419
摘要

The electron affinities of several metal oxide semiconductors that have been used as anodes in photoelectrochemical cells are calculated using the atomic electronegativities of the constituent atoms. These electron affinities are quantitatively related to the measured flatband potentials by considering the effects of specific adsorption of potential‐determining ions (for metal oxides used in photoelectrolysis, these are usually OH− and H+). Methods are discussed for determining the pH at which net adsorbed surface charge and thus potential across the Helmholtz layer is zero (point of zero zeta potential, pzzp). This pH value is shown to correlate with the electronegativity of the metal oxides. The application of these ideas to other semiconductor‐electrolyte systems is discussed.
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