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Chalcogen vacancies in monolayer transition metal dichalcogenides and Fermi level pinning at contacts

单层 硫族元素 凝聚态物理 过渡金属 材料科学 费米能级 纳米技术 结晶学 化学 物理 电子 生物化学 量子力学 催化作用
作者
Yuzheng Guo,Dameng Liu,John Robertson
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:106 (17): 173106-173106 被引量:154
标识
DOI:10.1063/1.4919524
摘要

It is predicted that Schottky barriers of the transition metal dichalcogenides MoSe2, MoTe2, WS2, WSe2, and WTe2 will suffer less from Fermi level pinning by chalcogen vacancies than does MoS2, because their vacancy formation energies are larger. The reduction in vacancy numbers will allow a greater degree of Schottky barrier height tuning by varying metal work function of the contacts in these compounds. The vacancy levels of WS2, WSe2 and MoSe2, and MoTe2 are also calculated to lie nearer midgap, so that ambipolar conduction will be easier in these compounds than in MoS2.
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