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A predictive approach to CVD of crystalline layers of TMDs: the case of MoS2

过饱和度 化学气相沉积 单层 材料科学 气相 过程（计算） 相（物质） 进程窗口 纳米技术 光电子学 计算机科学 化学 热力学 物理 有机化学 平版印刷术 操作系统
作者
Vikram Kumar,Shanta Dhar,Tanushree H. Choudhury,S. A. Shivashankar,Srinivasan Raghavan
出处
期刊：Nanoscale [The Royal Society of Chemistry]
日期：2015-01-01 卷期号：7 (17): 7802-7810 被引量：127
链接
nih.govdoi.org
标识
DOI：10.1039/c4nr07080a
摘要
A generic approach suitable to all TMDs has been demonstrated. Thermodynamic modeling identifies the appropriate CVD process window and the growth is controlled by tuning the vapor phase supersaturation. Consequently MoS2 growth, bulk to monolayers, has been achieved.
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