3300V-Class 4H SiC Implantation-Epitaxial Mosfets with Low Specific On-Resistance of 11.6mΩcm<sup>2</sup> and High Avalanche Withstanding Capability

JFET公司 材料科学 光电子学 MOSFET 外延 击穿电压 高压 电压 电气工程 纳米技术 场效应晶体管 晶体管 图层(电子) 工程类
作者
Takashi Tsuji,Hiromu Shiomi,Naoyuki Ohse,Yasuhiko Ōnishi,Kenji Fukuda
出处
期刊:Materials Science Forum 卷期号:858: 962-965 被引量:6
标识
DOI:10.4028/www.scientific.net/msf.858.962
摘要

In this paper, newly developed 3300V-class IEMOSFETs were presented. By means of the optimization of current spreading layers (CSLs), we could achieve low specific on-resistance (R ON A) of 11.6mΩcm 2 , while maintaining high blocking voltage (BV DSS ) of 3978V. The R ON A analysis revealed drastic reduction of JFET resistance compared to a MOSFET without a CSL. High ruggedness with the avalanche withstanding energy of 4.6J/cm 2 was achieved by the optimal device design of the edge termination. We could also confirm favorable characteristics of R ON A, BV DSS and threshold voltage (V TH ) at high temperatures up to 200 ○ C, and the fast switching behavior.
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