Universal Hot Carrier Degradation Model under DC and AC Stresses

降级(电信) 压力(语言学) 材料科学 激发 活化能 脉冲宽度调制 光电子学 电子工程 电气工程 化学 电压 工程类 语言学 哲学 有机化学
作者
Chu Yan,Yaru Ding,Yiming Qu,Liang Zhao,Yi Zhao
标识
DOI:10.1109/irps48227.2022.9764580
摘要

In this study, the impact of the self-heating effect (SHE) on the activation energy of hot-carrier injection (HCI) has been studied in n-FinFETs by correcting the channel temperature under different stress patterns. We also experimentally investigated why stress patterns with a shorter pulse width pstress result in a longer device lifetime. In addition to the inevitable SH, time-resolved particle behavior also plays an important role. Based on experimental data and the multiple vibrational excitation theory, a universal model is proposed covering HCI degradation under both DC and AC stress patterns with pstress down to 1 ns.
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