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Ab-initio study of Schottky barrier heights at metal-diamond (1 1 1) interfaces

钻石 肖特基势垒 欧姆接触 材料科学 凝聚态物理 费米能级 肖特基二极管 量子隧道 工作职能 光电子学 接触电阻 纳米技术 金属 冶金 物理 电子 二极管 量子力学 图层(电子)
作者
Chunmin Cheng,Zhaofu Zhang,Xiang Sun,Qingzhong Gui,Gai Wu,Fang Dong,Dongliang Zhang,Yuzheng Guo,Sheng Liu
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:615: 156329-156329 被引量:9
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2023.156329
摘要

Diamond electronic devices have attracted great attention in the field of high power and high frequency applications due to their excellent properties. For diamond electronics, metal and diamond contacts are important for the electronic device performance, with Schottky barrier heights (SBHs) playing a crucial role in the transmission properties of diamond devices. To make sense of their electrical characteristics, the interface supercells of diamond (1 1 1) with diverse metals have been explored using first-principles calculations. Clear metal-induced gap states (MIGS) can be observed at the interface, resulting in an enhanced Fermi-level pinning effect, with a pinning factor of 0.3. The results surprisingly show that there is a larger transverse tunneling probability and a smaller longitudinal tunneling probability for all diamond contact interfaces. All interfaces studied are p-type contacts with the metal Fermi level close to the diamond valance band edge. The low work function metals such as Sc and Ti are excellent at generating Schottky contacts with relatively higher SBHs (∼1.0 eV ± 0.6 eV). Pt and Ni have a smallest barrier height of ∼ 0.5 eV, making them ideal for ohmic electrodes with low contact resistance. The calculated SBHs are within the range of the experimental findings. This work gives insight into the electrical structural changes at the contact interface between metal and diamond, which provides a theoretical basis for selecting suitable electrodes for high-power diamond devices.
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