Thickness-dependent topological domain textures of layered ferroelectric Bi2WO6 thin films

铁电性 压电响应力显微镜 极地的 材料科学 薄膜 缩放比例 领域(数学分析) 拓扑(电路) 凝聚态物理 光电子学 纳米技术 物理 电介质 几何学 数学分析 数学 组合数学 天文
作者
Yong-Jun Kwon,Chan‐Ho Yang
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:124 (21) 被引量:1
标识
DOI:10.1063/5.0209503
摘要

Topological polar structures are attracting attention as potential applications of next-generation high-density memories. We investigate how the ferroelectric domain evolves with film thickness in c-axis oriented epitaxial Bi2WO6 thin films grown on (LaAlO3)0.3(Sr2AlTaO6)0.7 substrates. In addition to the general thickness scaling effect on domain size, we find that 3- or 4-variant domains appear in a sample thicker than 120 nm, whereas ⟨100⟩-type domains compete with the ⟨110⟩ ones in thinner samples, resulting in a variety of nontrivial topological structures. By visualizing the spatial distribution of electric polarizations through angle-resolved piezoresponse force microscopy, we provide direct evidence for the spontaneous emergence of nontrivial topological polar structures. These results provide useful insights into the domain behavior of layered ferroelectric thin films.

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